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 エレクトロニクス・製造領域 Menu HOME 目的 基盤戦略 イベント リンク お問い合わせ 次世代コンピューティング基盤開発拠点 次世代コンピューティング基盤開発拠点の目的 次世代コンピューティングにかかわる産業・学術分野において日本が重要な位置を占め、また占め続けるために、1）研究開発およびビジネス化の戦略策定、2）戦略に基づいた産総研における研究推進、3）企業・大学などが効率的に研究開発や人材育成を進めるために活用される試作・評価機能の実現の3点を拠点の目的としています。 次世代コンピューティング基盤戦略 産総研エレクトロニクス・製造領域では、次世代コンピューティング基盤の研究開発、ビジネス化、および人材育成の戦略を策定、また産総研のオープンイノベーションプラットフォームおよび研究開発について議論するため、益一哉東京工業大学学長と金山敏彦産総研特別顧問を共同座長として、大学、企業の有識者、新エネルギー産業技術総合開発機構技術戦略研究センター（NEDO-TSC）および産総研のメンバーからなる戦略会議を設置しました。2030年を見据え、社会的、産業的必要性から、2022年6月に下記の戦略目標及び戦略を策定しました。 戦略目標1：「実世界エッジコンピューティングの総合的な強化」 戦略目標2：「超分散コンピューティングに関わるチョークポイント技術の強化」 戦略目標3：「グリーン・サステナブル半導体製造技術の体系的構築」 拠点整備戦略 人材育成戦略 次世代コンピューティング基盤戦略 [pdf形式：1.8MB] イベント 第2回産総研次世代コンピューティング基盤開発拠点シンポジウム 【終了しました】 日時 2022年7月29日（金）13:00～17:40 場所 任意 オンライン（ZOOM） シンポジウムの詳細 Proof of Concept（PoC）ファブ 小径のウエハーで新材料や新構造のコンセプトを短い研究開発期間で実証するためのプロセス装置が各種そろっています。なかでも、超電導デバイス向けのクリーンルームは、量子コンピューティングなどに用いられるデバイスや超電導集積回路を作成できる国内最高水準の施設です。2020年度補正予算に基づいた「重点産業技術に係るオープンイノベーション拠点整備」によって、より使いやすく、優れた特性のデバイスを開発することを可能とするための整備を進めています。 PoCファブのページへ 量子・ＡＩ融合技術ビジネス開発グローバル研究センター 統合イノベーション戦略推進会議において発表された量子技術イノベーション戦略（2020年1月）および量子未来社会ビジョン（2022年4月）において、量子技術の基礎研究から技術実証・知財管理・人材育成に至るまで産学官で一気通貫で取り組む10か所の量子技術イノベーション拠点が示されています。産総研は、量子デバイスの設計・製造・実装・集積化・評価を担う量子デバイス開発拠点として活動してまいりましたが、さらに周辺機器等の試作・製造・評価、量子・古典のハイブリッドコンピューティング資源の利用機会の提供によるサービスビジネスを含む新たなユーザ市場の開拓、事業化等を支援する環境の整備や、標準化支援を行う拠点として発展させてまいります。 量子・ＡＩ融合技術ビジネス開発グローバル研究センター コンソーシアム 本拠点は、産総研コンソーシアムと連携し、設立・運営されています。 IMPULSEコンソーシアムのページへ 先端半導体製造技術コンソーシアムのページへ Siフォトニクスコンソーシアムのページへ お問い合わせ 次世代コンピューティング基盤開発拠点 国立研究開発法人 産業技術総合研究所エレクトロニクス・製造領域 研究企画室 E-mailrp-eleman-ml at aist.go.jp（送信時はatを@に置き換えてください） →エレクトロニクス・製造領域ページへ © 次世代コンピューティング基盤開発拠点 2023 プライバシーポリシー ご利用条件